Fotoelektrocheminio ėsdinimo proceso analizė ir optimizavimo galimybės
Fotoelektrocheminio ėsdinimo proceso analizė ir optimizavimo galimybės
Iššūkio partneris
Rimti išvien, MB

Trumpai
Studentai kviečiami išanalizuoti pateiktame moksliniame straipsnyje aprašytą fotoelektrocheminio ėsdinimo procesą, kuriame naudojama dviejų fotonų absorbcija ir HF rūgštis, bei suprasti pagrindines chemines reakcijas ir jų sąlygas. Ypatingas dėmesys skiriamas „skylių“ (elektronų vakansijų) generavimui ir jų vaidmeniui oksidacijos bei SiC tirpinimo procese. Taip pat studentai turi įvertinti alternatyvias ėsdinimo medžiagas (pvz., kitas rūgštis ar elektrolitus) bei procesinius parametrus, kurie gali paveikti ėsdinimo greitį ir paviršiaus kokybę. Galiausiai, tikslas – kritiškai įvertinti, kaip cheminės ir fizikinės sąlygos riboja arba leidžia optimizuoti šį mikrostruktūrų formavimo metodą. Pamėginti įvertinti alternatyvias ėsdinimo medžiagas, bei sąlygas kurios įtakoja greitį/kokybę.
Kviečiami studentai
Chemijos ir kitų susijusių studijų programų studentai
Šioje svetainėje naudojame slapukus, kad užtikrintume pagrindinį svetainės veikimą ir pagerintume jūsų naršymo patirtį. Jie taip pat padeda mums suprasti, kuri informacija jums aktualiausia, ir rodyti jums tinkamesnius pranešimus. Būtinieji slapukai naudojami visada, o kitus naudojame tik gavę jūsų sutikimą. Sutikimą galite bet kada pakeisti ar atšaukti slapukų nustatymuose.